產品展示
PRODUCT DISPLAY
技術支持您現在的位置:首頁 > 技術支持 > 日本Shinkuu MSP-1S離子濺射儀與配套靶材完整介紹

日本Shinkuu MSP-1S離子濺射儀與配套靶材完整介紹

  • 發布日期:2026-04-20      瀏覽次數:9
    • 一、產品概述

      MSP-1S 是日本 Shinkuu(真空デバイス)公司生產的臺式磁控離子濺射儀,專為掃描電鏡(SEM)樣品導電膜制備設計,廣泛用于材料、生物、電子等領域。
      image

      1. 核心參數

      • 尺寸 / 重量:W200×D350×H345 mm,約 14.6 kg,桌面式、內置真空泵。

      • 真空系統:內置 10 L/min 旋轉泵,極限真空約 2 Pa,工作真空 6–10 Pa(氬氣)。

      • 樣品倉:內徑 120 mm× 高 65 mm,硬質玻璃;樣品臺 φ50 mm,浮動式(與陽極分離)。

      • 靶材規格:φ51 mm× 厚 0.1 mm(Ag 為 0.5 mm),磁控管電極(永磁體內置)。

      • 電源:AC100 V,10 A;工作電壓約 500 V,低壓磁控,減少樣品損傷。

      2. 工作原理

      1. 真空腔充氬氣,高壓電場使氬氣電離為 Ar?。

      2. Ar?在電場加速下轟擊金屬靶材,靶原子被濺出。

      3. 靶原子沉積在樣品表面,形成 5–50 nm 厚均勻金屬膜,消除荷電、增強二次電子信號。

      3. 關鍵設計優勢

      • 浮動樣品臺:電流不流經樣品,升溫小,保護熱敏感樣品(如生物、高分子)。

      • 低壓磁控:500 V 級電壓、6–8 Pa 氣壓,膜層致密(均勻性≤10%)、顆粒細,適合高倍 SEM。

      • 一鍵全自動:抽真空→濺射→充氣全流程自動,1–5 分鐘完成鍍膜,新手易用。


      二、靶材體系與選型

      MSP-1S 支持 5 種貴金屬靶材,標配 Au-Pd 合金,可選 Au、Pt、Pt-Pd、Ag,規格均為 φ51 mm。
      image
      image
      image

      1. 各靶材特性與應用

      • Au-Pd(金鈀,60:40,標配)
        • 特點:導電性好、膜連續、抗氧化、顆粒中等(20–30 nm),成本均衡。

        • 適用:絕大多數常規 SEM 樣品(高分子、陶瓷、粉末、生物樣品),10,000–30,000 倍觀察。

      • Au(金)
        • 特點:導電性最1優、二次電子產率高、顆粒粗(30–50 nm)、易團聚。

        • 適用:低倍(≤10,000×)快速觀察、導電要求高的樣品;不適合高分辨率或多孔樣品。

      • Pt(鉑)
        • 特點:顆粒最細(10–20 nm)、膜致密穩定、抗氧化強、成本高。

        • 適用:高分辨率 FE-SEM(≤50,000×)、EBSD 分析、納米結構 / 薄膜 / 生物樣品高倍成像。

      • Pt-Pd(鉑鈀,80:20)
        • 特點:顆粒細(15–25 nm)、導電性與穩定性平衡、成本低于純 Pt。

        • 適用:中高倍(20,000–40,000×)、兼顧分辨率與成本的科研場景。

      • Ag(銀,厚 0.5 mm)
        • 特點:導電性高、沉積快、極易氧化,需低真空 / 氬氣保護保存。

        • 適用:短期高導電需求、非氧化環境樣品;不用于長期存放或高濕環境。

      2. 靶材選型指南

      表格
      應用場景推薦靶材關鍵理由
      常規 SEM(10k–30k×)、通用樣品Au-Pd(標配)均衡導電 / 成像 / 成本
      高倍 FE-SEM(≤50k×)、EBSDPt / Pt-Pd細顆粒、致密膜、高分辨率
      低倍快速篩查、高導電需求Au高導電、沉積快
      短期高導電、非氧化環境Ag高導電、成本低
      生物 / 高分子(熱敏感)Pt / Au-Pd低損傷、膜均勻

      三、設備與靶材匹配分析

      1. 優勢互補

      • 低壓磁控 + 浮動臺:與 Pt/Pt-Pd 靶材適配,實現低損傷 + 細顆粒,適合生物 / 納米樣品高倍成像。

      • 多靶材兼容:一臺設備覆蓋從低倍質檢到高倍科研的全場景,性價比高。

      • 靶材規格統一:φ51 mm 快換設計,切換便捷,減少停機時間。

      2. 局限性

      • 非超高真空:工作真空 6–10 Pa,靶材顆粒(10–50 nm),不支持≤100k× 的超高分辨率 FE-SEM(需 3–5 nm 顆粒,如 Cressington 208HR)。

      • 無反應濺射:僅支持貴金屬單質 / 合金,不能沉積氧化物、氮化物等功能膜。


      四、總結

      MSP-1S 是中小型 SEM 實驗室的理想標配設備:體積小、操作簡、低損傷,靶材體系覆蓋從常規到高倍的主流需求,Au-Pd 通吃、Pt 主攻高倍、Au 適合快速質檢。選型時優先匹配放大倍數、樣品類型與預算,可最1大化設備價值。


    聯系方式
    • 電話

    • 傳真

    在線交流